详细摘要： 团队介绍ASML和NIKON光刻机的翻新改造、安装调试及维护的核心技术能力
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青岛佳鼎分析仪器有限公司
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详细摘要： NSR-S622DArF浸没式扫描仪是通过进一步提高已验证的流线平台的准确性和生产力，用于20nm以下的高容量多模式应用
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详细摘要： NSR-S635EArF浸入式光刻机，集成内联对准站(iAS)，用于大容量5nm节点应用程序制造
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详细摘要： 尼康公司（东京港区总裁KazuoUshida）发布了一代尼康ArF浸入式扫描仪NSR-S631E
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详细摘要： NikonARF浸入式光刻机NSR-S630D进一步提高了NSR-S622D的精度和生产率，它采用了以高精度和生产率着称的流线型平台，适用于10纳米范围内的工艺...
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详细摘要： NSR-S621D已开发用于大批量制造22nm工艺节点（能够通过进一步提高久经考验的NSR-S620D的精度和生产率来处理双图案*1)
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详细摘要： NSR-S320F的平台在尼康的浸入式扫描仪中得到验证，确保在客户领域及早实现稳定运行和高生产率
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详细摘要： 尼康基于开创性的Streamlign平台开发了NSR-S620D，不仅可以实现32nm的双图案光刻，还可以为下一代应用提供可扩展性
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详细摘要： 尼康Nikonarf光刻机NSR-S610C，生产于2006年，分辨率小于等于45nm
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详细摘要： 尼康Nikoni-line步进式光刻机NSR-SF140生产于2005年，分辨率≤280nm
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详细摘要： NSR-S609B（分辨率≦55nm），用于大批量生产的ArF浸入式扫描仪，NA1.07（一台突破NA1.0阈值的扫描仪）2006年，NikonNSR-S609...
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详细摘要： 尼康NikonKrF光刻机NSR-S208D生产于2004年，分辨率≤110nm，产能达到140wph
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详细摘要： 尼康Nikoni-line光刻机NSR-SF130生产于2005年，NA为0.62，分辨率不大于280nm
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详细摘要： 尼康NikonArF光刻机NSR-S307E生产于2003年，分辨率80nm，采用193nmARF曝光光源
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详细摘要： 尼康NikonKrF光刻机NSR-S206D生产于2002年，分辨率110nm
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详细摘要： 尼康NikonArF光刻机NSR-S306C，分辨率100nm，生产于2001年
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详细摘要： NikonKrF光刻机NSR-S205C于2000年在新加坡生产，分辨率≤120nm
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